美國(guó)NANOVEA公司的T100型摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)是一款多功能的摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)設(shè)備，可在一臺(tái)設(shè)備上實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)，線性往復(fù)，環(huán)-塊，環(huán)-環(huán)四種工作模式，同時(shí)具有原位磨損率測(cè)量模塊，高溫模塊，低溫模塊，濕度模塊，膜厚測(cè)量模塊，氣氛模塊，潤(rùn)滑模塊，真空模塊，電化學(xué)腐蝕摩擦模塊，光學(xué)顯微鏡，聲發(fā)射模塊等多種模塊可供選擇，是科研客戶及工業(yè)客戶的理想選擇。該儀器除了能得到摩擦系數(shù)及摩擦力外，還可自動(dòng)得到磨損率，磨損深度，磨損面積體積，粗糙度及二維表面形貌，同時(shí)能計(jì)算靜摩擦系數(shù)與Stribeck曲線。
一、產(chǎn)品特性:
1、可在同一儀器上實(shí)現(xiàn)多種測(cè)量功能，真正意義上的摩擦磨損測(cè)試；
2、符合ASTM3702，ASTM G99與ASTM G133等國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)；
3、用于高**進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)摩擦系數(shù)曲線；
4、有旋轉(zhuǎn)，線性往復(fù)，環(huán)-塊，環(huán)-環(huán)四種工作模式；
5、采用位置譯碼器與速度譯碼器可**控制馬達(dá)控制速度與位置；
6、可測(cè)量靜摩擦系數(shù)及Stribeck曲線；
7、*大載荷：100N；
8、轉(zhuǎn)度：0.01-5000rpm，15000rpm可選；
9、密封式裝置，可以控制環(huán)境，如：氣體、濕度、潤(rùn)滑等；
10、高溫模式選件，*高可測(cè)1100℃環(huán)境下的摩擦磨損；
11、實(shí)時(shí)接觸電阻測(cè)量選件可提供接觸電阻測(cè)試
12、表面形貌測(cè)試模塊選件用于測(cè)量磨損率,磨損前后二維表面形貌、磨損面積、磨損率、磨損深度、平整度、線粗糙度參數(shù)（Ra，Rp，Rv，Rz，Rc， Rt，Rq，Rsk，Rku，）等表面參數(shù)
13、原位電化學(xué)工作站選件，搭配普林斯頓的電化學(xué)工作站進(jìn)行摩擦腐蝕方向的研究。
14、真空模塊選件，可實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的摩擦磨損測(cè)試。
15、低溫模塊選件，可實(shí)現(xiàn)低溫-150℃下的摩擦磨損測(cè)試
二、產(chǎn)品應(yīng)用
| 半導(dǎo)體技術(shù)： ·鈍化層 ·金屬涂敷 ·焊墊 醫(yī)療: ·藥片 ·植入物 ·生物組織 光學(xué)元件： ·棱鏡
·光纖 ·光學(xué)元件涂層 ·高容量光存儲(chǔ)： ·磁盤涂層 ·CD涂層 ·薄膜 | 耐磨材料涂層： ·TiN, TiC, DLC ·切削工具 工程： ·橡膠 ·觸摸屏 ·涂層 微電子器件系統(tǒng) 裝潢金屬涂層 汽車： ·噴漆涂層 ·玻璃印刷層 ·汽車精加工部件 |
三、技術(shù)參數(shù)
主機(jī)參數(shù)：
| 參數(shù) | 旋轉(zhuǎn)模式 |
| 載荷范圍 | 50mN-100N |
| 載荷分辨率 | 6μN(yùn) |
| 旋轉(zhuǎn)速度 | 0.01-5000rpm/0.05-15000rpm |
| *大扭矩 | 4.4Nm |
| *大摩擦力 | +/-100N |
| 摩擦力分辨率（理論） | 6μN(yùn) |
| X軸自動(dòng)控制范圍 | 50mm |
| X軸半徑分辨率 | 2.5μm |
| 儀器尺寸 | 65cm×52cm×65cm |
| 重量 | 約70Kg |
| 盤尺寸 | 100mm |
| 接觸探頭 | 可選針型、球形與銷型 |
| 線性往復(fù)模式 |
| *大振幅 | 25mm |
| *大掃描頻率 | 60Hz@5mm沖程 |
| 潤(rùn)滑控制系統(tǒng)（可選） |
| 液體消耗率 | 60-90cm3/hour |
| 液體容量 | 120ml |
| 液體容器 | 包含 |
| 高溫測(cè)量系統(tǒng)（可選） |
| 箱體溫度（旋轉(zhuǎn)模式） | 1100℃ |
| 加熱片（線掃描模式） | 800℃ |
| 液體加熱模式 | 150 ℃ |
| 分辨率 | 1℃ |
| 低溫模塊（可選） |
| -40℃/-150℃ |
| 深度傳感器（可選） |
| *大位移量 | 2000μm |
| 分辨率 | 0.1nm |
| 接觸電阻（可選） |
| *大阻抗 | 0-1000 Ohms |
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表面形貌儀模塊技術(shù)參數(shù)：
NANOVEA公司提供兩種光學(xué)測(cè)量探頭可供用戶選擇：
EP110(用于磨損較淺的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下：
1) Z方向測(cè)量范圍：100μm
2) Z方向測(cè)量分辨率：20nm
3) Z方向測(cè)量精度：50nm
4）橫向光學(xué)分辨率：3μm
5）光斑直徑：6μm
6)工作距離：1mm
EP1500(用于磨損較深的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下：
1) Z方向測(cè)量范圍：1.5mm
2) Z方向測(cè)量分辨率：200nm
3) Z方向測(cè)量精度：300nm
4）橫向光學(xué)分辨率：3.5μm
5）光斑直徑：7μm
6)工作距離：2.3mm
