某品牌 Sputtering + E-Beam PVD 鍍膜機系統(tǒng)采用 HVA 真空閥門 11000, HVA 真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空, 只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.
HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:
閥門材質(zhì): | |
- 閥門主體 | 304 不銹鋼 |
- 焊接波紋管軸封 | AM - 350 |
閥門密封方式 | |
- 高真空 | 氟橡膠 |
- 超高真空 | 銅墊圈 / 氟橡膠 |
真空: | |
- 壓力范圍 | 高真空 1x10-9 mbar, 超高真空 1x10-10 mbar |
- 漏率 | < 2x10-9 mbar l/S |
- 差壓關(guān)閉 | 1 bar ( 任意位置 ) |
- 開啟前壓力 | ≤ 30 mbar |
烘烤溫度(不含電磁閥): | |
- 彈性體密封閥蓋 | 150°C |
- 金屬密封閥蓋 | -開啟溫度:200°C -關(guān)閉值:150°C |
- 驅(qū)動方式 | 手動 60 °c, 氣動 60 °c |
機制 | |
手動: | 手搖曲柄 |
電磁閥供電電壓 | 120 VAC 50 /60 Hz |
電磁閥可選電壓 | 24, 200, 240 VAC 50/60 Hz |
電磁閥位置指示器 | 115 VAC |
氣動送風(fēng): | 80 psig |
使用壽命: 100,000 啟閉次數(shù) (具體視實際使用情況決定) | |
公稱通徑: DN 16 - 800 mm |
E-Beam 鍍膜機設(shè)備組成: 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子槍, 進樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺, 工作氣路, 抽氣系統(tǒng), 真空測量, 電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成.
基片在做實驗前一般需要做鍍前預(yù)處理, 鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面, 為最后獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備, 要進行脫脂, 去銹蝕, 去灰塵等工作, 也有客戶在 LOADLOCK 腔進行射頻反應(yīng)清洗, 通過使用上海伯東 KRI 離子源將基片的表層打掉, 得到更光滑和均勻的表面.
若您需要進一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :
上海伯東 : 羅先生
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
2025廣州國際分析測試及實驗室設(shè)備展覽會暨技術(shù)研討會
展會城市:廣州市展會時間:2025-03-05