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簡介：THEIA是一款高性能，穩定，靈活，可靠且安全的研發型原子層沉積系統，兼具工業生產解決方案的優勢。THEIA超快平面原子層沉積系統可進行升級改造，從而滿足科學研究的各種需求，并實現從“研發”到“生...

簡介：PANDORA是高度集成的臺式原子層沉積系統，可擺放在實驗室的任意角落，采用旋轉式反應腔實現對粉末材料的分散，有更高的兼容性。對于平面樣品，則可快速插入平面反應臺，實現樣品的切換。PANDORA多...

簡介：P系列粉末原子層沉積系統是ForgeNano針對工業包覆研發的粉末ALD負載系統，可實現kg級粉末批量包覆，是工業生產前理想的研發工具。

簡介：SAL3000原子層沉積系統是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備，該設備多可搭載6路前驅體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。該設備在保持了優異的膜厚分布外，還可進一步通過改變鍍...

簡介：SAL-3000PlusALD原子層沉積系統是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統，可通過連接STR2000轉移單元，與退火設備SAN2000Plus，鍍膜設備，SVE2000Plus蒸鍍設備SSP...

簡介：SAL1000系列桌面型ALD原子層沉積系統是由日本AGUS生產的桌面型ALD原子層沉積設備，可搭載2路前驅體。適用于4英寸（φ100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

簡介：臺式三維原子層沉積系統-ALD是通過將氣相前驅體脈沖交替的通入反應器，化學吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此，它是一種真正的“...

簡介：該PECVD等離子體增強化學氣相沉積設備系統可以沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等。可選用射頻（RF）、空陰*密度等離子體（HCD）源、感應耦合等離子體（I...

簡介：我們提供了一套完整的金屬有機化學氣相沉積系統（MOCVD），主要產品包括臺式研發型、中試型和生產型。其反應器的設計可以根據工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要。我們也能為客戶設計以滿足客...

簡介：原子層沉積系統生長的金屬氧化物薄膜可用于柵極電介質、電致發光顯示器絕緣體、電容器電介質和MEMS器件，生長的金屬氮化物薄膜適合于擴散勢壘。