Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)-電鏡制樣設(shè)備
采用兩個寬束氬離子束對樣品表面進行拋光，去除損失層，從而得到高質(zhì)量的樣品，用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外將這兩支離子槍對準(zhǔn)靶材濺射，可用來對樣品做導(dǎo)電金屬膜沉積處理，以防止樣品在電鏡中發(fā)生荷電效應(yīng)。

Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)-電鏡制樣設(shè)備

產(chǎn)品介紹

 產(chǎn)品功能介紹

Gatan公司的精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II 是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。對于同一個樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。

品牌介紹

美國Gatan公司成立于1964年并于70年代末進入中國市場。Gatan公司以其產(chǎn)品的高性能及技術(shù)的*性在電鏡界享有*聲譽。

作為世界領(lǐng)前的設(shè)計和制造用于增強和拓展電子顯微鏡功能的附件廠商，其產(chǎn)品涵蓋了從樣品制備到成像、分析等所有步驟的需求。產(chǎn)品應(yīng)用范圍包括材料科學(xué)、生命科學(xué)、地球物理學(xué)、電子學(xué)，能源科學(xué)等領(lǐng)域， 客戶范圍涵蓋的科研院所，高校，各類檢測機構(gòu)及大型工業(yè)企業(yè)實驗室，并且在科學(xué)研究領(lǐng)域得到了廣泛認(rèn)同。

經(jīng)銷商介紹

歐波同有限公司是中國領(lǐng)前的微納米技術(shù)服務(wù)供應(yīng)商，是一家以外資企業(yè)作為投資背景的*，總部位于香港，分別在北京、上海、遼寧、山東等地設(shè)有分公司和辦事處。作為蔡司電子顯微鏡、Gatan掃描電子顯微鏡制樣設(shè)備及附屬分析設(shè)備在中國地區(qū)重要的戰(zhàn)略合作伙伴，公司秉承“打造國內(nèi)具影響力的儀器銷售品牌”的經(jīng)營理念，與蔡司，Gatan品牌強強聯(lián)合，正在為數(shù)以萬計的中國用戶提供高品質(zhì)的產(chǎn)品與技術(shù)服務(wù)。

產(chǎn)品主要技術(shù)特點：

精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II，采用兩個寬束氬離子束對樣品表面進行拋光，去除損失層，從而得到高質(zhì)量的樣品，用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外將這兩支離子槍對準(zhǔn)靶材濺射，可用來對樣品做導(dǎo)電金屬膜沉積處理，以防止樣品在電鏡中發(fā)生荷電效應(yīng)。

這款儀器被設(shè)計為不破壞真空，不將樣品新鮮表面暴露在大氣中，即可對拋光樣品進行處理。樣品的裝卸是通過一個專門設(shè)計的裝樣工具在真空交換艙中完成。

兩支具有更大電壓范圍的小型潘寧離子槍，可提供快速柔和的拋光效果。低至100eV的離子束提供更柔和的拋削效果，用于樣品的拋光。低能聚焦電極使得離子束的直徑在幾乎整個加速電壓范圍內(nèi)都保持一致。每個離子槍都能準(zhǔn)確獨立地進行對中。在儀器運行過程中，離子槍的角度可隨時進行調(diào)整。離子槍的氣流可在觸摸屏上通過手動方式或者自動方式進行調(diào)整， 用于優(yōu)化離子槍的工作電流。

PECS II樣品臺采用液氮制冷方式。可以有效的保護樣品，避免離子束熱損傷，消除可能的假象。

集成的10英寸彩色觸摸屏計算機可對PECS II系統(tǒng)的所有操作參數(shù)進行*控制。此界面不僅可以設(shè)定所有參數(shù)并能夠監(jiān)控拋光過程。所有的操作參數(shù)還可以存為配方，調(diào)用配方可獲得高精度重復(fù)實驗。

渦輪分子泵搭配兩級隔膜泵保證了超潔凈環(huán)境。通過Gatan的樣品裝卸工具能實現(xiàn)快速樣品交換（< 1min），這樣就能保證換樣過程中加工艙室始終處在高真空狀態(tài)。

Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)-電鏡制樣設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

離子源

*離子槍兩支配有稀土磁鐵的潘寧離子槍，高性能無耗材

*拋光角度±10°, 每支離子槍可獨立調(diào)節(jié)

離子束能量100 eV 到 8.0 keV

離子束流密度10 mA/cm2 峰值

離子束直徑可用氣體流量計或放電電壓來調(diào)節(jié)

樣品臺

樣品大小：大直徑 32mm， 大高度 15mm

樣品裝載： 對于截面樣品拋光采用 Ilion™ II 專項的樣品擋板，二次再加工位置精確。

樣品拋光及鍍膜功能：兼具有平面拋光、截面拋光及濺射鍍膜功能，靶材數(shù)：2個

靶材切換：無需破壞真空，可直接切換

樣品旋轉(zhuǎn)：1 到 6 rpm 可調(diào)

束流調(diào)制：角度可調(diào)的單束調(diào)制或雙束調(diào)制

真空系統(tǒng)

干泵系統(tǒng)80 L/s 的渦輪分子泵配有兩級隔膜泵

壓力5 x 10-6 torr 基本壓力

8 x 10-5 torr 工作壓力

真空規(guī)冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用于前級機械泵

*樣品空氣鎖Whisperlok專項技術(shù)，無需破壞主樣品室真空即可裝卸樣品，樣品交換時間 < 1 min

用戶界面

*10 英寸觸摸屏操作簡單，且能夠*控制所有參數(shù)和配方式操作

*操作界面語言：提供中文、英文等多種選擇

產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域：

EBSD樣品制備

截面樣品制備

金屬材料（合金，鍍層）

石油地質(zhì)巖石礦物

光電材料

化工高分子材料

新能源電池材料