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PHI X-tool 供應日本全自動掃描型微區XPS探針

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PHI X-tool是一款操作簡單,同時具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的掃描聚焦X-ray系統,可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。和傳統的XPS相比,不采用光闌進行選區,極大的提高了XPS在200μm以下空間尺度的靈敏度。同時,不需要增加磁透鏡,即可得到靈敏度及優秀的信噪比,即使磁性樣品,也可輕松應對。

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產品簡介

PHI X-tool是一款操作簡單,同時具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的掃描聚焦X-ray系統,可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。和傳統的XPS相比,不采用光闌進行選區,極大的提高了XPS200μm以下空間尺度的靈敏度。同時,不需要增加磁透鏡,即可得到的靈敏度及優秀的信噪比,即使磁性樣品,也可輕松應對。


1. 操作性

PHI X-tool軟件支持直觀的觸摸屏操作,所有XPS測定過程都可在觸摸屏上完成。用戶可以自由選擇手動操作模式和自動操作模式(自動定性、定量、分析及完成報告),操作者無論是否具有豐富的XPS操作經驗,均能輕松應對。

 


 


2. 自動參數設定、自動完成報告

PHI X-tool具備自動對焦功能(Auto-Z),使分析位置處于X射線的焦平面上,得到的分析條件。其可實現中和參數的自動匹配,無論樣品的導電性如何,均可輕松應對。

l   自動定性:實現譜峰自動識別

l   自動定量:自動選定譜峰定量范圍

l   自動曲線擬合:可自動實現預定條件的曲線擬合

l   自動生成實驗報告




   


3. 多方式樣品觀察

XPS分析中,樣品觀察,特別是微區定位至關重要。PHI X-tool可通過以下三種方式進行樣品觀察:a. 進樣室高空間分辨率圖像;b. 實時CCD成像;c. 二次電子像(SXI)。利用這幾種方法觀察樣品,不論樣品大小,表面形貌如何均可輕松確定測試位置。


4. 詳細的條件設定和直觀的操作

結合材料和目的,可詳細設定分析的條件。通過內置元素周期表,可設定各光電子峰和俄歇峰。通過更改通過能、步長、積分時間設定窄譜掃描參數。對每個樣品可設置習慣的文件名和樣品名稱。


5. 快速化學成像

采用掃描X射線和高靈敏度檢測器及非掃描模式,可實現快速成像分析。每個點都可以直接調取全部的譜數據。化學態成像的空間分辨率、靈敏度、能量分辨率與儀器主指標一致。



 

 


6. 采用PHI硬件設計

l   微聚焦掃描X-ray源;

l   雙束中和系統,低能離子束及低能電子束自動配合;

l   浮動離子槍,離子加速電壓條件范圍可達0~5kV



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