引言
光刻機(jī)（Mask Aligner）又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
光刻機(jī)工藝是由硅片處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影、堅膜、檢測。其中光刻機(jī)的檢測尤為重要光刻膠在顯影后在烘烤硬化堅膜。對刻蝕和離子注入工藝非常關(guān)鍵。正膠的堅膜烘培溫度約為120℃到140℃。溫度太高會產(chǎn)生光刻膠流動。因此溫度對于光刻的成品率起著重要的決定性因素
光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃介紹
光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃是合肥智測電子有限公司的一款高精度熱敏電阻測量產(chǎn)品，支持 4 線制熱敏 電阻測量，測量zuida阻值250KΩ，精度±0.02℃。RS485接口支持MODBUS協(xié)議，包括MODBUS RTU 和 MODBUS ACSII 協(xié)議，NTC 測量模塊采用 24V 直流電壓供電，提供 4 線制熱敏電阻溫度測量，用戶可輸入 NTC 特征參數(shù)，精度可達(dá)±0.02℃。模塊配備了 RS485 通訊接口，支持 MODBUS 協(xié)議，可提供 用戶二次開發(fā)。獨立的電源開關(guān)可單獨控制模塊供電。
光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃應(yīng)用
光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、LED、空調(diào),冰箱、冷柜、熱水器、飲水機(jī)、暖風(fēng)機(jī)、洗碗機(jī)、消毒柜、洗衣機(jī)、烘干機(jī)等家電設(shè)備上、汽車空調(diào)、水溫傳感器、進(jìn)氣溫度傳感器、發(fā)動機(jī)、開關(guān)電源、UPS不間斷電源、變頻器、電鍋爐等
智能馬桶,電熱毯等
光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃性能
●靈敏度高,響應(yīng)速度快
●精度高
●具有良好的絕緣密封性和抗機(jī)械碰撞
光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃優(yōu)勢
小巧便捷
獨立電源鍵
支持4線制熱敏電阻測量
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