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參考價 | ¥ 1140000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 伯東企業(yè)(上海)有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 上海市
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2023/1/5 14:34:00
- 訪問次數(shù) 543
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上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 考夫曼型離子源 RFICP 100 緊湊設(shè)計, 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設(shè)計但是可以輸出 >400 mA 離子流. 考夫曼型離子源 RFICP 100 源直徑19cm 安裝在10”CF 法蘭, 在離子濺鍍時, 離子源配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)更佳的薄膜特性.
KRI 射頻離子源 RFICP 100
上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 考夫曼型離子源 RFICP 100 緊湊設(shè)計, 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設(shè)計但是可以輸出 >400 mA 離子流. 考夫曼型離子源 RFICP 100 源直徑19cm 安裝在10”CF 法蘭, 在離子濺鍍時, 離子源配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)更佳的薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學(xué)配合, 蝕刻更均勻. 標(biāo)準(zhǔn)配置下 RFICP 100 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以達(dá)到 400 mA.
KRI 射頻離子源 RFICP 100 技術(shù)參數(shù)
陽極 | 電感耦合等離子體 |
zui大陽極功率 | 600W |
zui大離子束流 | > 300mA |
電壓范圍 | 100-1200V |
離子束動能 | 100-1200eV |
氣體 | Ar, O2, N2,其他 |
流量 | 5-20 sccm |
壓力 | < 0.5mTorr |
離子光學(xué), 自對準(zhǔn) | OptiBeamTM |
離子束柵極 | 10cm Φ |
柵極材質(zhì) | 鉬, 石墨 |
離子束流形狀 | 平行,聚焦,散射 |
中和器 | LFN 2000 |
高度 | 23.5 cm |
直徑 | 19.1 cm |
鎖緊安裝法蘭 | 10”CF |
KRI 射頻離子源 RFICP 100 應(yīng)用領(lǐng)域
預(yù)清洗
表面改性
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD,
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE
客戶案例: 超高真空離子刻蝕機 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系統(tǒng)配置如下
美國 KRI 射頻離子源 RFICP 100
美國 HVA 真空閘閥
德國 Pfeiffer 分子泵 HiPace 2300
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專li. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 射頻離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生
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