JC2000HM系列高溫接觸角測(cè)量?jī)x
*，納米材料科學(xué)與工程已經(jīng)成為世界性的研究熱點(diǎn)，在研究納米材料的表面改性時(shí)，往往要涉及潤(rùn)濕接觸角這個(gè)概念。所謂接觸角是指在一固體水平平面上滴一液滴，固體表面上的固－液－氣三相交界點(diǎn)處，其氣－液界面和固－液界面兩切線把液相夾在其中時(shí)所成的角。
JC2000C系和D系的接觸角測(cè)量?jī)x可以提供室溫-100℃和室溫-400℃高溫腔體，但是更高的高溫接觸角測(cè)量，就需要的高溫裝置的JC2000HM系列高溫接觸角測(cè)量?jī)x。
一、整體指標(biāo)：
1. 接觸角測(cè)量范圍：0-180°
2. 接觸角測(cè)值精度：±0.1°
3. 接觸角分辨率：0.01°
4. 計(jì)算機(jī)觀察圖像，接觸角軟件測(cè)量
5. 工業(yè)USB制式CCD
6 0.7－4.5×連續(xù)變倍顯微鏡
7 特殊背景燈光源
8 隔熱可視窗口φ20mm
9 額定功率：3KW
10 額定電壓：AC 380V或AC220V
11 H1溫度控制：室溫－1100℃ ，H2 溫度控制：室溫－1400℃，H3 溫度控制：室溫—1700℃。
12 空爐升溫時(shí)間≤180min
13 升溫速度：3－5℃/min
14 爐膛尺寸：φ40×300mm（恒溫區(qū)150mm）
15 H1真空極限：6×10-2pa ， H2真空極限：6×10-2pa ，H3真空極限：4×10-5pa
16 控溫精度：±1℃
17加熱采用鉬絲為發(fā)熱元件的管式電阻爐，用氬氣保護(hù)發(fā)熱元件不過快氧化。升溫速度可手動(dòng)、自動(dòng)調(diào)節(jié)，爐膛試驗(yàn)區(qū)溫度梯度±15℃。
二：硬件指標(biāo)
（一）成像系統(tǒng)及其控制：
1、鏡頭控制：一維俯仰控制
2、鏡頭：工業(yè)連續(xù)放大鏡頭 0.7-5X光學(xué)放大 有效像素55 -320 pixel/mm ，工作距離90mm。
3、相機(jī)系統(tǒng)：工業(yè)級(jí)超低照度CCD系統(tǒng) 水平750線 0.0005Lux照度
4、相機(jī)通訊：高速CCD25幀/秒的速度（分辨率640*780）
5、背景光：可調(diào)亮度LED冷光源，高亮度LED燈 進(jìn)口亞克力遮光片技術(shù)
（二）軟件指標(biāo)：
1、接觸角分析方法:
6種 量高法、五點(diǎn)擬合法、量角法、插板計(jì)算法、懸滴擬合法、自動(dòng)影像分析法等
2、接觸角數(shù)據(jù)取得方式：全自動(dòng)測(cè)值和人工修整相結(jié)合。按測(cè)試，軟件自動(dòng)拍照-查找敏感點(diǎn)-計(jì)算接觸角值-顯示計(jì)算結(jié)果，整個(gè)過程無須人工干預(yù)，以降低人為因素影響
3、接觸角量測(cè)技術(shù)：數(shù)學(xué)模型擬合與真實(shí)液滴外廓實(shí)際量測(cè)相結(jié)合，解決非對(duì)稱圖像測(cè)值問題
4、測(cè)試液滴狀態(tài)，共4種：懸滴法(Pendant Drop)、停滴法(Sessile Drop)（2/3態(tài)）等
5、曲面修正：上凸曲面、下凹曲面、表面粗糙度修正
6、動(dòng)/靜態(tài)接觸角測(cè)試，可測(cè)試前進(jìn)/后退角/傾斜角和滾動(dòng)角值
7、拍攝圖像方法：?jiǎn)螐埮臄z、間隔拍攝（1-3600秒）和25幀/秒連續(xù)拍攝
8、左右接觸角值分別計(jì)算與比較功能，軟件自動(dòng)求取平均接觸角
9、強(qiáng)大的數(shù)據(jù)庫(kù)管理功能：備份、壓縮、導(dǎo)出EXCEL表格，測(cè)值以及曲線擬合結(jié)果均可保存到導(dǎo)出的圖片上，直觀明了。
10、視頻錄相功能：錄制AVI格式影視圖像，可用于PPT文件制作
11、多種表面自由能估算模型，至少有9種表面自由能估算模型，不但能分析低能固體表面，也能分析高能固體表面
三 主要應(yīng)用：
1.金屬、陶瓷等復(fù)合材料的潤(rùn)濕性研究；
2.高溫下材料的潤(rùn)濕性能研究；
3.高溫高真空下材料的動(dòng)態(tài)變化過程；
4.高熔點(diǎn)材料的表面張力研究；
5.高溫真空釬焊研究。
