K-Patents 作為在線折光儀的，其產(chǎn)品擁有光學(xué)、機(jī)械結(jié)構(gòu)、信號處理、智能圖像等全面的技術(shù)，擁有很多*的產(chǎn)品優(yōu)勢，保證了產(chǎn)品技術(shù)*于其他品牌的同類產(chǎn)品。

K-Patents擁有許多不同型號的在線折光儀，廣泛應(yīng)用于化工、石化、造紙、食品飲料、制藥、半導(dǎo)體、冶金等各行業(yè)的在線溶液濃度及密度測量。所有的產(chǎn)品性能均*，區(qū)別僅僅在于為了滿足用戶不同測量環(huán)境和技術(shù)規(guī)格需要。

公司簡介

芬蘭K-Patents OY是世界*臺在線數(shù)字式折光儀制造商，是**僅專業(yè)生產(chǎn)數(shù)字式在線折光儀，且擁有光學(xué)、機(jī)械結(jié)構(gòu)、信號處理、智能圖像診斷等多項世界的制造商。

K-Patents在線折光儀從**保障儀表的高準(zhǔn)確度、高穩(wěn)定性和高可靠性，它能承受各種惡劣測量環(huán)境挑戰(zhàn)，確保在各種惡劣條件下連續(xù)免維護(hù)運行10年以上。

K-Patents產(chǎn)品被廣泛用于各種溶液濃度（或糖度、折射率）測量，在食品飲料、生化制藥、石油化工、半導(dǎo)體、采礦冶金、造紙紡織等各個行業(yè)安裝數(shù)量已超過12000臺！！！

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技術(shù)優(yōu)勢

芬蘭K-Patents 在線折光儀是溶液濃度測量的理想選擇， 它具有高準(zhǔn)確度、終身免維護(hù)、無零點漂移、不受氣泡、顆粒物雜質(zhì)、振動影響， 無備品備件消耗等優(yōu)點。

1. 真正意義上的數(shù)字化測量： 不受溶液中氣泡、顆粒物的干擾。
2. 光學(xué)核心技術(shù)：儀表終身無漂移，無再校準(zhǔn)，無需機(jī)械調(diào)整。
3. 智能光學(xué)圖像診斷功能，用戶隨時可以查看zui底層工作狀態(tài)。
4. 所有傳感器可以任意互換使用，不受測量介質(zhì)限制，即插即用，無需做任何設(shè)置更改。
5. 以太網(wǎng)連接：方便與電腦通信，進(jìn)行數(shù)據(jù)存儲和儀表操作。
6. 溫度補(bǔ)償：內(nèi)置Pt1000溫度傳感器，自動測量溫度并進(jìn)行補(bǔ)償。
7. 快捷的儀表校驗：使用標(biāo)準(zhǔn)折射液即可快速校驗儀表，以滿足工廠質(zhì)量管理體系要求。
8. 雙探頭連接：一個變送器可以同時連接兩個傳感器。
9. 易于安裝：提供法蘭或夾鉗式安裝。
10. 免維護(hù)，低運行成本：無需日常維護(hù)，備件耗用極低。

測量原理

K-Patents 在線折光儀 PR-23利用光的折射、全反射原理，采用數(shù)字化智能圖像處理，以及多項準(zhǔn)確測量液體折射率及濃度。

光的折射
光的折射現(xiàn)象是指光從一種介質(zhì)斜射入另一種介質(zhì)時，因傳播速度不同而發(fā)生傳播方向改變，從而使光線在不同介質(zhì)的交界處發(fā)生偏折。光的折射與光的反射一樣都是發(fā)生在兩種介質(zhì)的交界處，只是反射光返回原介質(zhì)中，而折射光線則進(jìn)入到另一種介質(zhì)中。在兩種介質(zhì)的交界處，既發(fā)生折射，同時也發(fā)生反射。

光的全反射
當(dāng)光由光密（即光在此介質(zhì)中的折射率大的）媒質(zhì)射到光疏（即光在此介質(zhì)中折射率小的）媒質(zhì)的界面時，全部被反射回原媒質(zhì)內(nèi)的現(xiàn)象。

臨界角
指光發(fā)生全反射時的入射角，當(dāng)光射到兩種介質(zhì)界面，只產(chǎn)生反射而不產(chǎn)生折射的現(xiàn)象．當(dāng)光由光密介質(zhì)射向光疏介質(zhì)時，折射角將大于入射角，當(dāng)入射角增大到某一數(shù)值時，折射角將達(dá)到90°，這時在光疏介質(zhì)中將不出現(xiàn)折射光線，只要入射角大于或等于上述數(shù)值時，均不再存在折射現(xiàn)象，這就是全反射。全反射的條件是：①光必須由光密介質(zhì)射向光疏介質(zhì)，②入射角必須大于或等于臨界角(C)。
sinc=n1/n2 (c為臨界角，n1為棱鏡折射率）

PR-23-MS典型應(yīng)用

K-Patents半導(dǎo)體行業(yè)在線折光儀PR-23-MS實時監(jiān)測整個半導(dǎo)體制造工藝中的連續(xù)液體化學(xué)品濃
度。也就是從化學(xué)品供應(yīng)直到工藝的全過程的質(zhì)量控制。

散裝化學(xué)品供應(yīng)
在搬運和儲存過程中可能會發(fā)生化學(xué)品質(zhì)量的變化。如果化學(xué)品規(guī)格不在預(yù)設(shè)的范圍內(nèi)，PR-23
-MS會觸發(fā)報警以防止錯誤的化學(xué)品或濃度不符的化學(xué)品進(jìn)入到工藝流程中。

濕法蝕刻
蝕刻劑的溫度和濃度是濕蝕刻速度的主要影響因素。如果知道蝕刻劑濃度，就可以優(yōu)化蝕刻工藝
并檢測結(jié)束點。例如，當(dāng)使用PR-23-MS連續(xù)監(jiān)測加熱的氫氧化鉀水溶液濃度就可以優(yōu)化氫氧化鉀
蝕刻工藝。

蝕刻后晶片清潔
PR-23-MS用于測量昂貴的超純化學(xué)品濃度和聚合物清除，例如EKC-265蝕刻后晶片清潔。這給浸泡
的過程提供了實時的指示，有利于增加浸泡液使用以及減少化學(xué)品的消耗。

化學(xué)機(jī)械拋光
PR-23-MS提供一種監(jiān)測酸液和化學(xué)品濃度的方法，例如化學(xué)機(jī)械拋光摩擦泥漿中雙氧水的含量。這
可以用來檢測結(jié)束點以及達(dá)到更好的拋光均勻性。

典型的化學(xué)品以及混合液：

醋酸CH3COOH，丙酮CH3COCH3，氨水NH4OH，氟化銨NH4F，氫氧化銨NH4OH，硫酸銨(NH4)2SO4，檸
檬酸C6H8O7，稀氫氟酸DHF，氯化亞鐵FeCl2，蟻酸HCO2H，氫氟酸HF，鹽酸HCl，雙氧水H2O2，異
丙醇IPA，氯化鎂MgCl2，氯化鎳NiCl2，硝酸HNO3，磷酸H3PO4，氫氧化鉀KOH，氯化鈉NaCl，
氫氧化鈉NaOH，硫酸H2SO4，羥化四甲基銨TMAH (CH3)4NOH

RCA1, SC1 (APM), SC2, RCA2, EKC265, ACT930, ACT970

技術(shù)規(guī)格

折射率范圍：    滿量程時 nD =1.3200...1.5300（對應(yīng) 0...100 % b.w.）

準(zhǔn)確度：             折射率 nD ± 0.0001（通常情況下對應(yīng) ± 0.05% 重量百分比濃度）

重復(fù)性：        折射率 nD ± 0.00005（通常情況下對應(yīng) ± 0.025% 重量百分比濃度）

響應(yīng)速度：      無阻尼時間 1 s，阻尼時間 5 分鐘可選

光學(xué)核心部件：  無需機(jī)械調(diào)整（獲美國號 No. US6067151）

數(shù)字化測量：      3648 像素 CCD 照相機(jī)

光源：                LED 3D光源，589 nm 波長，鈉D線

溫度傳感器：    內(nèi)置 Pt-1000，線性遵從 IEC 751

溫度補(bǔ)償：      自動數(shù)字補(bǔ)償

過程溫度：         -20°C 到150°C（180°C可選）

校準(zhǔn)：         菜單式引導(dǎo)，使用標(biāo)準(zhǔn)折射率液體自動校驗，并生成可追溯校驗報告供存檔。

自診斷：       智能圖像診斷功能，供用戶實時掌握光學(xué)系統(tǒng)工作原始狀態(tài)。

售后服務(wù)

終身檔案化用戶管理，支持，快捷完善的本地化服務(wù)

K-Patents 對 每一個用戶的貼心服務(wù)和支持也是它贏得廣泛贊譽(yù)的原因之一。自訂貨起，我們對每一臺儀表建立了電子檔案，任何*服務(wù)工程師都可以在線了解到儀表應(yīng)用 信息，并將發(fā)生的售后記錄記錄在案。這一好處在于，用戶服務(wù)不會受到中間商，某個服務(wù)人員的影響，無論何時，用戶都可以享受到廠商的貼心服務(wù)。（附：客戶 檔案舉例）

凱帕特斯儀器技術(shù)咨詢（上海）有限公司是K-Patents 在華全資子公司 ，其主要任務(wù)就是為中國用戶提供更為快捷的專業(yè)化本地服務(wù)。我們具有非常專業(yè)的售后服務(wù)人員及裝備，儀表無需返至芬蘭工廠進(jìn)行處理。

K-Patents 總部也非常重視對中國用戶的支持和服務(wù)，每年多次派遣技術(shù)人員親臨中國，進(jìn)行用戶巡訪及培訓(xùn)等。