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KSI MK52系列光學隔振平臺

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新型MK52系列隔振控制平臺,符合人體工學設計標準,適配于超低固有頻率模式下的各方面應用。Kinetic Systems, Inc.(簡稱KSI)通過使用Minus K負剛度隔振技術,能夠提供穩固緊湊的被動隔振平臺,擁有超低固有頻率、更高內結構頻率和優良的垂直和水平隔振效率。

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新型MK52系列隔振控制平臺,符合人體工學設計標準,適配于超低固有頻率模式下的各方面應用。Kinetic Systems, Inc.(簡稱KSI)通過使用Minus K負剛度隔振技術,能夠提供穩固緊湊的被動隔振平臺,擁有超低固有頻率、更高內結構頻率和優良的垂直和水平隔振效率。升級的MK52系列能夠提供更好的客戶舒適度,增加額外的腿部空間。

Minus K垂直隔振器使用一個牽引彈簧和負剛度機械結構,能夠在不影響靜態載荷能力的情況下,達到較低的垂直剛性。

MK52系列是在高性能MK26系列基礎上設計實現的,提出雙隔振器概念,能夠通過一個可擴展的工作平面實現優良的隔振效率。但調整到 0.5 Hz 固有頻率,系統的隔振效率可達93%2 Hz99%5 Hz99.7%10 Hz。

MK52系列隔振平臺可以根據不同的應用需要,進行選擇性配置,客戶也可以根據需要進行定制隔振平臺。

MK52系列典型的隔振控制應用

MK52系列能和很多設備儀器搭配使用,且能達到極其優良的性能表現,如高精分析天平,細胞接種,共聚焦顯微鏡,膜片箝,光學顯微鏡,圓晶針測,原子力顯微鏡等。同時在其他研究領域也有很廣泛的應用,如半導體過程處理,通信,航空航天和醫學研究等。

 

 

產品概述和特點

人體工學設計;

超低固有頻率

阻尼振動結構設計

可定制配件

無需提供氣源-易于使用

可選桌面

適配Class100潔凈室

Class10可選。

 

技術參數

 

大載荷

2000 lbs.906kg

96”2436mm

48”1218mm

垂直固有頻率

0.5 Hz

水平固有頻率

0.5 Hz

隔振效率 @ 2 Hz

93%

隔振效率@ 5 Hz

99%

隔振效率 @ 10 Hz

99.7%

 


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