美國XOS HD 手持式X射線熒光光譜儀使用雙彎晶，具有聚光功能，加強X 熒光.在低含量檢出時，其結果仍然具有一定穩定性，檢出較低。而金屬中元素較難檢測，HD 將能更好應對。

美國 XOS 公司 X 射線熒光光譜儀

1. XOS 公司介紹：

◆ XOS® (X-Ray Optical Systems, Inc. X射線光學系統公司) 總部位于美國紐約州*Albany, 為丹納赫水質平臺子公司。

◆ XOS®是一家應用材料和元素分析設備供應商，為重視控制材料質量與性能的行業監管部門和客戶提供擁有技術的分析設備。

◆ XOS公司擁有 的研發和設計能力，與美國的眾多研究機構有合作關系，曾經參與了許 的課題設計，包括美國宇航局的行星元素探測計劃（XRF方法）等。

◆ XOS擁有 的X射線光學技術，能夠幫助客戶將測量靈敏性提高百倍，減少測量時間，提高空間分辨率，縮小設備尺寸，并且節約設備成本。

◆ XOS公司的光學晶體 應用于大型波長色散型XRF、微區聚焦XRF、掃描電鏡等X射線儀器。XOS公司與其他 的XRF生產廠商都有合作，提供給它們 光學聚焦晶體。

◆ XOS公司具備HDXRF的 技術— DCC，也是 一家擁有自己 技術的XRF生產廠商，其他品牌XRF的核心部件——X光管、濾光片、準直器等均為外購。

◆ XOS公司在 元素分析領域有著 的技術應用，XOS公司與美國NASA下屬的JPL實驗室合作，研發了一款 用于2020火星計劃的XRF元素分析儀

2. 主要技術參數和優點：

1) 采用XOS技術DCC®（雙曲面彎晶技術），取代傳統的濾光片和準直器，真正實現單色光激發樣品；

2) 檢測光斑1mm，適合測試不規則樣品和細小樣品；

3) 采用 SDD硅漂移探測器，分辨率高，無需液氮冷卻；

4) 滿足美國ASTM F2853標準；

5) 可同時測試涂層與基材中的重金屬含量；

6) 采用基本參數法，可分析各類未知樣品；等等

美國XOS HD 手持式X射線熒光光譜儀

應用領域：

•重金屬檢測，確保符合法規要求

•快速 篩檢和定量分析有毒元素

•在整個供應鏈中進行合規驗證：

-生產過程和成品質量分析與控制（QA/QC)

-倉庫和零售商

-監管部門

-現場應用

性能和優勢:

• 完成測試，測試結果可與“濕式化學法” 

•與濕式化學法相比，運營成本更低

•降低第三方測試成本

•改善工作流，降低成本

•提高測試頻率，同時降低成本

•在實際篩檢和認證應用中，具有的檢測下限

•同時對涂層與基體進行分析

•點分析并配有分辨率分析畫圖像

•用戶友好型界面和數據管理，易于操作

HD 應用優勢

技術方面

① 傳統 XRF 普遍使用金屬濾光片，對原級 X 射線進行過濾，會導致熒光減弱，在測試低

含量時，其結果波動較大，不具有參考性。同時濾光片數量有限，在基材有所變化時，

濾光片不一定適用，導致結果偏差。 而 HD  使用雙彎晶，具有聚光功能，加強

X 熒光.在低含量檢出時，其結果仍然具有一定穩定性，檢出限較低。而金屬中元素較難

檢測，HD  將能更好應對。

② 軟件方面，HD 使用 FP 計算方法，同時顯示所有測試元素。并且結合雙彎晶特

點，一條曲線就能完成金屬類別檢測；而傳統 XRF 需要應對不同的基體，單獨曲

線，或者特殊材質，特殊標定校正，操作較麻煩。

產品方面

① HD 提供不同操作模式，即可定量分析，亦可便攜篩選。 可應對不同場合測試需求

②   XOS 技術，涂層基材檢測能力，可應對不同種類產品以及不同發展需求。

③ HD   不開放操作人員數據修正功能，源自于丹納赫以及 XOS 對旗下產品性能穩

定性以及技術的自信。

實際使用方面

① 針對樣品復雜多樣的客戶，HD 相對傳統 XRF 儀器而言，結果更加真實、可靠、

穩定。

② 1mm 小光斑可測試細小樣品及不規則樣品的細小部位。

③ 針對復雜的金屬樣品，其牌號、組成、工藝等方面的差異，都會造成儀器檢測的困難，

HD 相對傳統 XRF 而言，不需要 校準曲線而統一采用 FP 無標樣分析技

術，可以更好的應對多種類型的樣品，省去測試人員區分樣品的工作環節，以及*

避免由此帶來的人為誤差

產品規格