本款產品專為有高溫微流變表征的用戶設計，溫度上限可達180℃。有研究人員利用傳統技術測試高溫流變時需要利用時-溫疊加的方法間接推算，而本產品允許用戶利用基于動態光散射原理的擴散波譜技術直接在不高于180℃的條件下直接測試樣品的微流變性能。
儀器相關配置參數如下：
※ 背散射和前散射兩種模式，提供完整的DWS解決方案，通過電子快門系統實現兩種模式轉換；
※ 軟件功能強大，用以數據采集和分析，結合單多斑測量，用戶可自定義多腳本運行，進行在線微流變分析，可以得到粘彈模量、均方位移、平均光子自由程、蠕變柔量、損耗角正切和平均粒徑；
※ 自動測量得到平均光子自由程l*和吸收長度la。
※ 半導體激光光源，685nm，40mW，噪音小于0.5%，單模TEM00，相干長度＞1m，預熱時間15分鐘，激光路徑處于密閉空間，安全等級為1級（根據EN 60825-1/11.01標準）；
※ 兩個高檢測效率的單光子計數檢測器，量子效率＞65% @ 685nm，標準死時間20ns；
※ 雙通道快速多tau/線性相關器，小采樣時間12.5ns；
※ 測試溫度范圍（4℃ - 180℃），在實驗室溫度不高于23℃時溫控精度+/-0.02℃，露點以下測量時需接干燥空氣吹掃，RheoLab提供接口；
※ 儲存模量G'和損耗模量G"測量范圍1Hz-10MHz，彈性范圍：1Pa-50kPa；
※ 可測試1mPas以上的低粘度樣品；
※ 樣品池支架光程范圍1-10mm，可使用標準的光學池，使用1mm樣品池時樣品需求量降至150μL；
※ 儀器無需光學平臺，操作保養更加簡捷。

產品功能：
DWS RheoLab HT高溫型擴散波譜儀采用了背散射和前散射技術，能夠在高溫條件下分析軟物質的微流變以及超濃懸浮液的平均粒徑。
包括背散射和前向散射完整的DWS方法，采用雙池回波技術（EP 1720000 A1）的，用于非遍歷性樣品表征；利用回波技術，幾分鐘內得到儲存模量G'和損耗模量G"，頻率上限可達10M Hz ；適用于＞1%的樣品濃度（和粒徑有關），透明樣品需加入示蹤粒子；可以測量穩定性，老化性以及凝膠點等。

使用背散射技術測量平均粒徑，測量范圍：50nm-1μm；適用于顆粒濃度20%以下的牛頓流體體系，能獲得多分散性樣品的平均粒徑。

相關耗材：
1mm、2mm、5mm、10mm四種規格的樣品瓶；PS示蹤粒子；二氧化硅示蹤粒子。（需訂貨）