我們提供各種高品質的EUV（極紫外光刻）/ X射線聚焦鏡產品。

鏡片種類

· 鏡面形狀：平面，凸面，凹面，球面，圓柱面等

· 適用于各種波長的多層鏡

· 各種單層薄膜（金屬，碳化物，氧化物等）鏡面

· 大型多層膜鏡（可達φ300mm）

· 高耐熱多層鏡

※ 我們也可提供硬X射線相關產品。

產品實例

Mo / Si多層鏡

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· 這是一款可在13至30nm波長下使用的多層膜鏡；
· 它能夠反射，濃縮和分離EUV光， 多用于EUVL，X射線望遠鏡，X射線顯微鏡，等離子體診斷，高次諧波利用等實驗；
· 我們還制造耐熱多層鏡（具有阻擋層的多層膜），其間插入有中間層。
(H. Takenaka et al, OSA TOPS on EUVL, p. 169, Vol. 4, 1996)

X射線鏡的示例性截面結構和X射線反射的結構視圖：

反射實際測量值（直接入射角：2度）：

各種Mo / Si多層鏡：

φ100毫米凹面鏡：

φ12英寸平面鏡：

用于Schwarzschild光學系統的凹面鏡：

分裂凹面鏡：

EUV鏡

EUV寬帶鏡和EUV窄帶鏡

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· EUV寬帶反射鏡是一種多層反射鏡，可在比通常的多層薄膜更寬的波長范圍內反射，并用于多個階上的亮線反射。
· EUV窄帶鏡是具有比通常的多層膜窄的波長半值寬度的多層鏡，并且它可以用于光譜測量等以選擇特定的發射線。

反射實際測量值（入射角：垂直入射2度）：

圖例為EUV寬帶球形多層反射器。 一個Mo / Si寬帶多層膜在φ100mm的Zerodure基板上形成的圖像：

EUV分級鏡

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· 這是一款多層膜鏡，它具有可精確控制的周期長度，該周期長度對應于在基板表面內變化的入射角。 可以在整個基板表面上實現高反射率。

· 我們將在直徑大于300毫米的彎曲基板上形成分級鏡。

· 下面的圖分別是形成在凹面鏡上的EUV梯度Mo / Si多層膜的反射率評估的實例，以及入射角從直接入射0°變化到直入入射角10°圖例?？梢钥闯?， 電路板設計使得在入射角處測量的反射峰非常均勻。

分級鏡像結構的示例。 紅色箭頭代表光線。在基板中心附近，入射角是0度的直接入射角相應的多層膜周期長度短。隨著直接入射角朝向基板邊緣增加，多層膜周期長度變長：

掠入射鏡/全反射鏡

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· 這款產品是用于EUV區域中的傾斜入射光學系統的全反射鏡。
· 我們將在各種基材（平面，凸面，凹面，球面，非球面，圓柱面等）上形成金屬，碳化物和氧化物。

反射實際測量實例（Ru單層涂層，入射波長13.5 nm）：

反射實際測量實例（SiC單層涂層，入射角10度）：

用于30nm波長的SiC / Mg多層鏡

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· 這款產品是用于波長約30nm的高反射多層膜。
(H. Takenaka et. Al., J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., 144-147, (2005) 1043-1045)
· 它還可用于EUV光條件下的各種應用（空間觀察，使用高次諧波的各種實驗）。

反射實際測量實例（入射角：垂直入射2度）：

φ1英寸凹面鏡：

用于6nm波長的Cr / C＆CoCr / C多層鏡

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· 這是一款在6nm波長附近使用的多層膜鏡。
· 它被開發為用于會聚光學系統的多層鏡，多用于顯微光電子能譜。

(H. Takenaka et al, J. Phys. IV France, p. 255, vol. 104, 2003)

反射實際測量實例（入射角：垂直入射2度）：

其他實例

若您需要制作以下其他類型的各種多層鏡和全反射鏡，也請隨時與我們聯系。

多層薄膜范例	Co/C, CoCr/C, Cr/C, Fe/TiC, Fe/TiN, Mo/barrier/Si,Mo silicide/Si, Mo/B4C, Mo/BN, Mo/C, Ni/C, Ni/C/Ti, Ni/Ti, Pt/B4C, Pt/C, Ru/B4C, Ru/C, Ru/Si, Sc/Cr, W/BN, W/B4C, W/Si, W silicide/Si, W/SiC等.
單層鏡范例	Ag, Au, Cr, Mo, Ni, Pt, Ru, SiC, Y2O3,等