全新半導體工業檢測產品——AWL系列晶圓檢查系統，兼具穩定性和安全性，能夠安全可靠的傳送晶圓，適合于前道到后道工程的晶圓檢查。
主要技術參數：
| 型號 | AWL046 | AWL068 | AWL812 |
| 晶圓尺寸 | 100mm / 150mm | 150mm / 200mm | 200mm / 300mm |
| 晶圓最小厚度 | 150um | 150um / 180um | 180um / 250um |
| 晶舟類型 | Open Cassette | Open Cassette / FOUP、FOSB | |
| 檢查模式設置 | 全檢 / 奇數檢 / 偶數檢 / 手動選擇 | ||
| 晶舟掃描（有 / 無 / 斜片） | ● | ● | ● |
| 晶舟內凸片偵測報警 | ≥4mm | ≥5mm | |
| 晶圓預定位（平邊、Notch） | ● | ● | ● |
| 朝向設置（平邊、Notch） | 非接觸式定位平邊、Notch，支持0°、90°、180°、270°朝向設置 | ||
| 檢查功能 | 晶面宏檢（旋轉）、晶背宏檢1（外圈、旋轉）、晶背宏檢2（中心） | 晶面宏檢（旋轉）、晶背宏檢1（外圈）、晶背宏檢2（中心） | |
| 外觀尺寸（W*D*H） | 1450*700*1600mm | 1550*700*1600mm | 2400*1400*2450mm |
| 電源需求 | 1P / 220V / 10A | 1P / 220V / 16A | |
| 真空需求（負壓 / 正壓） | -70KPA ～ -80KPA | -70KPA ～ -80KPA / 0.5MPA | |
| 適用顯微鏡 | 6RC/8RC金相顯微鏡 | ||
| 光學系統 | 無限遠色差校正光學系統，放大倍率50X-1000X | ||
| 觀察方式 | 明場、暗場、偏光、DIC | ||
| 目鏡 | 高眼點大視野平場目鏡PL10X22mm，可帶視度可調，可帶測微尺 | 高眼點大視野平場目鏡PL10X25mm，可帶視度可調，可帶測微尺 | |
| 觀察頭 | 鉸鏈三目觀察筒，5-35度傾角可調，正像，瞳距調節范圍：50-76mm，兩檔式分光比，雙目：三目=100：0，0：100 | 鉸鏈三目觀察筒，0-35度傾角可調，正像，瞳距調節范圍：50-76mm，兩檔式分光比，雙目：三目=100：0，0：100 | |
| 物鏡 | 長工作距平場明暗場半復消色差金相物鏡 5X / 10X / 20X / 50X / 100X | ||
| 轉換器 | 明暗場6孔電動轉換器（帶DIC插槽） | ||
| 機架 | 反射式機架，前置低手位粗微同軸調焦機構，粗調行程35mm，微調精度0.001mm，帶有防止下滑的松緊調節裝置和隨機上限位裝置，內置100-240V寬電壓系統 | 明暗場反射照明器，帶視場光闌，可變電動孔徑光闌，帶明暗場切換裝置，帶濾色片插槽與偏光裝置插槽，帶12V10W LED光源控制部件 | |
| 明暗場反射照明器，帶視場光闌，可變電動孔徑光闌，帶明暗場切換裝置，帶濾色片及偏光裝置插槽，帶12V10W LED燈箱 | |||
| 載物臺 | 6英寸機械移動平臺，低手位X、Y方向同軸調節，晶圓承片臺臺面φ38mm，可360°旋轉，移動行程228mm(X方向)×170mm（Y方向），觀察范圍：170mmX170mm，帶離合器手柄 | 8英寸機械移動平臺，低手位X、Y方向同軸調節，晶圓承片臺臺面φ60mm，可360°旋轉，移動行程280mm（X方向）×210mm（Y方向），觀察范圍：210mm×210mm，帶離合器手柄 | 12英寸自動平臺，X、Y、Z、φ多方向調節，晶圓承片臺臺面φ70mm，可360°旋轉，移動行程600mm（X方向）×500mm（Y方向），觀察范圍：310mm×310mm，φ方向可±5度旋轉，各軸運動速度可以高低速切換 |
| 其他 | 濾色片插板、起/檢偏鏡插板、DIC組件、攝像接口、調整平臺、相機、專業晶圓檢查軟件等 | ||
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