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W5型全譜直讀光譜分析儀

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W5型全譜直讀光譜儀擁有可快速的對金屬材料樣品進行元素測定

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W5型全譜直讀光譜分析儀

W5型全譜直讀光譜儀擁有可快速的對金屬材料樣品進行元素測定。光學系統采用CMOS檢測器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素,它都能準確、可靠的分析。公司在行業內擁有光譜多年的生產經驗積累,針對不同材料、不同要求,設計了這款全新的、更具性價比的全譜直讀光譜儀,可滿足金屬制造業、加工業及金屬冶煉用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的應用。

黑科技一:性能*的光學系統
帕邢-龍格結構凹面光柵,全譜覆蓋,滿足客戶對全元素檢測的需求。
直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件,保證紫外區域的性能。
高分辯率多CMOS讀出系統,較低的暗電流,較好的檢出限,較高的穩定性,較強的靈敏度,滿足N的分析要求。

黑科技二:智能數字激發光源
全數字化智能復合光源DDD技術,帶來*分析性能。
緊湊的設計及半導體控制技術,使得光源具有較好的穩定性、更強的可靠性。
高能預燃技術(HEPS),激發參數調整,充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發要求。

黑科技三:智能樣品激發臺設計
激發臺直接將激發光導入光學系統
開放式樣品臺,滿足大樣品測試要求。
變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有較好的性能
視頻識別技術,確保樣品臺激發安全,可監測樣品臺的全景。

黑科技四:智能集成氣路模塊
智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置
氬氣噴射技術,有效消除激發過程中等離子體的飄移,確保CCD檢測器能夠觀測高溫區域光信號,提高精度和穩定性。
激發后,脈沖式氬氣吹掃,提高粉塵去除效果,提升儀器的短期和長期穩定性。


黑科技五:智能真空測量和控制
真空系統程控,在保證真空度的同時減少真空泵的運行時間,
雙級設置,在儀器不運行的情況下,開啟待機真空運行狀態。
多級真空隔離措施及增加濾油裝置,保障光學元器件在可靠的環境中工作。

黑科技六:透鏡清理裝置
不銹鋼真空球閥,在清理透鏡時有良好的隔離效果。
單板式透鏡設計,拆裝方便。
交叉機械裝置,在未解除隔離的情況有效保護光學系統。

黑科技七:計算機及讀出系統
計算機與手機(或PAD)可同步顯示,方便面板操作。
高分辯率多CMOS讀出系統及FPGA、DSP和ARM技術,進行數據采集。
以太網和TCP/IP協議,數據傳輸高速、可靠。
數據可遠程傳輸,全面實現網絡化。實時方便對儀器運行狀態的監測和控制。
數據可進行云打印。

黑科技八:專用的光譜分析軟件
光譜儀制作標準的專用光譜儀軟件,操作界面人性化,功能標準化。
儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析方法和的解決方案。
可根據用戶的材料要求,可現場延長標準曲線的測量上、下限。


其它黑科技:
自動光路校準
低氬氣消耗
通用可調樣品適配器
基體擴展功能
標準化參數修改
控樣修正功能
安全、開放的便捷設計
結果實時顯示,可為用戶定制打印報告功能
軟件快速診斷
界面操作簡單
可靠的工廠校準功能
技術參數:
項目 指標
檢測基體 鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個基體
光學系統 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統
波長范圍 165~580nm(可安裝上下限檢測器擴大波長范圍)
光柵焦距 400mm
探測器 高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類型 DDD數字激發光源,高能預燃技術(HEPS)
放電頻率 100-1000Hz
放電電流 大400A
檢測時間 依據樣品類型而定,一般在25s左右
電極類型 鎢材噴射電極
分析間隙 樣品臺分析間隙:3.4mm
真空系統 真空軟件自動控制、監測
光室恒溫 34℃,溫度自動監測
氬氣純度 99.999%
氬氣壓力 0.5MPa
工作電源 AC220V 50/60Hz
儀器尺寸 860*680*438mm
儀器重量 約100kg



應用行業:鋼鐵行業、有色金屬、合金鑄造、機械加工、商檢質檢、材料研究


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