尼康旗下的NIKON INSTECH公司（總部：東京）將推出高度分辨率達到1pm的光干涉顯微鏡系統“BW-M7000”（圖1）。該系統可高速高精度測定高度范圍從亞納米級到毫米級的表面性狀（材料表面圖案及粗糙度、表面上的微小落差等）。

表面性狀測定采用尼康自主開發的方式——“FVWLI（Focus Variation with White Light Interferometry）法”。該方法可使對象材料的表面生成干涉紋，高精度決定各像素的焦點位置。通過使用這種方式，可在2.5倍（視野4.4×4.4mm）至100倍（視野111.0×110.0μm）的所有倍率下實現三維算數平均高度（Sa）為0.1nm級別的表面性狀評估。能夠以單一模式測定超平滑表面到粗糙表面，無需更換光學濾光片等部件。另外，在測定膜厚時使用光譜干涉法。能以不到0.1秒的時間測定厚度為1nm～40μm的透明薄膜的厚度。

可通過程序控制手段實現全自動測定，能夠自動實施對焦、調整樣品的傾斜、判斷是否合格等操作。可自動測定多個視野，除了材料研發一線之外，還可輕松用于品質管理及現場。

該顯微鏡配備行程為300×300mm的電動XY軸載物臺，以及行程為200mm的電動Z軸變焦載物臺。可測定半導體、LED、薄膜材料、高分子材料、精密機械加工部件等多種樣品（圖2、圖3）。在測定鉆頭的表面形狀時，可用夾具保持其直立固定狀態。