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Leica EM ACE600 高真空鍍膜儀

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Leica EM ACE600 高真空鍍膜儀 2018/06/20   Leica EM ACE600 是一款高真空鍍膜儀,真空泵采用隔膜泵和渦輪分子泵,無油真空系統,真空度可達2×10 -6 mbar。鍍膜細膩均勻。內置石英膜厚檢測器,可精確控制鍍膜厚度。全自動電腦控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作。采用觸摸屏控制,簡單方便。儀器可選離子濺射鍍金屬膜,滿足高分辨場發射掃描電鏡(FE-SEM)需求。可選碳絲蒸發鍍碳膜,用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網鍍碳膜。還可以選擇電子束蒸發方式鍍膜,獲得極其細膩的金屬膜與碳膜,可用于DNA投影等特殊用途。  特點  ? 可任選離子濺射模式,碳絲蒸發鍍碳模式,碳棒(熱阻)蒸發模式,電子束蒸發模式,雙濺射模式,濺射-碳絲模式,濺射-碳棒模式,濺射-電子束模式,雙電子束模式,可兼容EM VCT500冷凍傳輸系統,可選輝光放電(用于網格表面親水化)  ? 設計脈沖式碳絲蒸發方式,可精確控制碳膜厚度  ? 內置石英膜厚檢測器,精確......

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  Leica EM ACE600 是一款高真空鍍膜儀,真空泵采用隔膜泵和渦輪分子泵,無油真空系統,真空度可達2×10 -6 mbar。鍍膜細膩均勻。內置石英膜厚檢測器,可精確控制鍍膜厚度。全自動電腦控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作。采用觸摸屏控制,簡單方便。儀器可選離子濺射鍍金屬膜,滿足高分辨場發射掃描電鏡(FE-SEM)需求。可選碳絲蒸發鍍碳膜,用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網鍍碳膜。還可以選擇電子束蒸發方式鍍膜,獲得極其細膩的金屬膜與碳膜,可用于DNA投影等特殊用途。

  

特點

  ? 可任選離子濺射模式,碳絲蒸發鍍碳模式,碳棒(熱阻)蒸發模式,電子束蒸發模式,雙濺射模式,濺射-碳絲模式,濺射-碳棒模式,濺射-電子束模式,雙電子束模式,可兼容EM VCT500冷凍傳輸系統,可選輝光放電(用于網格表面親水化)

  ? 設計脈沖式碳絲蒸發方式,可精確控制碳膜厚度

  ? 內置石英膜厚檢測器,精確控制鍍膜厚度,精度達0.1nm

  ? 全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程

  ? 觸摸屏控制,簡單方便

  ? 采用隔膜泵+渦輪分子泵,無油真空系統,真空度≤2×10 -6 mbar

  ? 濺射電流:0-150mA可調

  ? 方形樣品倉設計,樣品倉尺寸:200mm(寬)×150mm(深)×195mm(高)

  ? 樣品臺內置旋轉,工作距離調節范圍:30mm-100mm



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