Leica EM ACE200 低真空鍍膜儀 2018/06/20 Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發鍍碳膜功能，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網鍍碳膜。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當下非常流行的觸摸屏控制，簡單方便。特點 ? 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網格表面親水化） ? 設計脈沖式碳絲蒸發方式，可精確控制碳膜厚度 ? 可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm ? 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程 ? 觸摸屏控制，簡單方便 ? 真空度≤7×10 -3 mbar ? 濺射電流：0-150mA可調 ? 方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高） ? 工作距離調節范圍：30mm-100mm
Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發鍍碳膜功能，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網鍍碳膜。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當下非常流行的觸摸屏控制，簡單方便。
特點
? 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網格表面親水化）
? 設計脈沖式碳絲蒸發方式，可精確控制碳膜厚度
? 可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm
? 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程
? 觸摸屏控制，簡單方便
? 真空度≤7×10 -3 mbar
? 濺射電流：0-150mA可調
? 方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）
? 工作距離調節范圍：30mm-100mm
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