日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結構高分辨成像。平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。日立高新離子研磨裝置IM4...
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結構高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：
與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間。
（加工率：硅元素為300微米/小時 — 加工時間減少了66%。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺裝置：
為便于樣品設置和定義研磨邊緣，可將樣品臺裝置拆卸。
特點 |
|
*您想獲取產品的資料：
個人信息：
