日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm特點：采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件可處理較厚或較大的樣品...
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm
特點：
采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲常用加工條件
*您想獲取產品的資料：
個人信息：
