HP1000G-CCR高溫熱臺專為化學氣相沉積、石墨烯生長設計，可用于顯微鏡/光譜儀，可用于氣相沉積，石墨烯生長、高溫材料等領域。可定制樣品區。此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1000℃ 范圍內控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔，可以充入氮氣、還原性氣體、腐蝕性氣體等。
產品簡介
HP1000G-CCR高溫熱臺專為化學氣相沉積、石墨烯生長設計，可用于顯微鏡/光譜儀，可用于氣相沉積，石墨烯生長、高溫材料等領域。可定制樣品區。
此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1000℃ 范圍內控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔，可以充入氮氣、還原性氣體、腐蝕性氣體等。
溫控參數
溫度范圍 | 30℃ ~ 1000℃ |
加熱塊材質 | 氮化硅 |
傳感器/溫控方式 | S型熱電偶 / PID控制 |
Z大加熱 | +200℃/min （<850℃時）; min="">850℃時） |
Z小加熱 | +0.5℃/min |
溫度分辨率 | 0.1℃ |
溫度穩定性 | ±1℃ |
軟件功能 | 可設溫控速率，可設溫控程序，可記錄溫控曲線 |
光學參數
適用光路 | 反射光路 *另有透射光路型號 |
窗片 | 可拆卸與更替的窗片 |
Z小物鏡工作距離 | 8.8mm *截面圖中WD |
上蓋窗片觀察 | 窗片范圍Φ27mm，Z大視角±44° *截面圖中θ1 |
結構參數
加熱區/樣品區 | 20mm *20mm |
腔高 | 3.5mm *樣品Z大厚度 = 樣品腔高 – 樣品襯底厚度 |
樣品襯底 | 默認為剛玉坩堝（Φ7 mmx3 mm） |
上蓋 | 可調壓力的窗蓋，兼顧氣密型與窗片旋轉 |
氣氛控制 | 氣密腔，可充入還原性氣體、腐蝕性氣體 |
外殼冷卻 | 通循環水，以維持外殼溫度在常溫附近 |
安裝方式 | 水平安裝 或 垂直安裝 |
臺體尺寸/重量 | 115 mm x 84 mm x 24 mm / 1000g |
配置列表
基本配置 | HP1000G-CCR高溫熱臺 、mK2000B溫控器 、外殼循環水冷系統 |
可選配件 | 冷熱臺安裝支架 |
功能特點
適用于 顯微鏡/光譜儀 的超高溫應用 |
30℃~1000℃ 可編程控溫 |
20mm加熱區 |
可充入保護氣體的氣密腔（另有真空腔型號） |
可從溫控器或電腦軟件控制，可提供軟件SDK |
*可做定制或改動，詳詢蘇州卡斯圖 |
溫控配件系列
用于Instec溫控裝置
適用范圍
用于搭配Instec冷熱臺、Instec溫控探針臺、Instec溫控晶圓夾盤、Instec冷熱平板、Instec定制溫控裝置使用。
溫控配件系列
安裝支架：用于將溫控裝置固定在用戶設備上 |
mK2000B溫控器，含InstecAPP溫控軟件，溫控裝置必選 |
LN2-SYS液氮制冷系統：液氮泵+液氮罐+液氮管線 |
外殼循環水冷系統，帕爾貼式溫控裝置必選 |
MITO系列溫控聯用顯微鏡相機，含控制軟件 |
LWDC2長工作距離聚光鏡 |
真空系統：包括真空泵+真空管路，用于真空型溫控裝置 |
LN2-SYS液氮制冷系統
主要分為液氮泵和液氮罐兩部分。使用時需用管路將溫控裝置串接在液氮罐和液氮泵之間，溫控裝置加熱塊內埋有封閉式進出管路，液氮泵受mK2000B控制進行抽氣，把液氮從液氮罐內吸到溫控裝置的加熱塊中，實現溫控裝置主動降溫。
外殼循環水冷系統
用于溫控裝置的外殼/底座的冷卻。溫控裝置加熱/制冷時，外殼/底座溫度會被帶得很燙/很涼，危害周遭人員設備及設備自身。用循環水讓外殼溫度保持在常溫附近，可以預防此災害。
mK2000B溫控器
支持恒溫、恒速率變溫、暫停、編程溫控功能。具有冷熱獨立的多段PID控制、可保存4套20段校準表等特點。可獨立控制，也可從InstecAPP軟件控制。
溫度分辨率 | ±0.001℃ (熱敏電阻)，±0.01℃ (RTD)，±0.1℃ (熱電偶) |
控制接口 | USB虛擬串口 可選其他接口 |
可選項 | LVDC線性可調直流電源，用于降低電噪音 |
溫控軟件 | InstecAPP，可提供多語言SDK |
安裝支架
針對用戶設備定制，可讓熱臺水平固定/垂直固定等，垂直光路/水平光路等的用戶設備皆可適用。通常有：
圓環式（用于圓形載物臺），平板式（用于方形載物臺）、
載物臺式（用于代替設備載物臺）、立式（用于水平光路）。
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