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HS1500V實驗室設備

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HS1500V高溫熱臺專為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計,可用于陶瓷、冶金、地質、高溫材料等領域??杉友b樣品接電引線,可定制樣品區。此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1500℃ 范圍內控溫,同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個真空腔,可以充入氮氣等保護氣體也可抽真空,來防止樣品高溫下反應。

詳細信息 在線詢價

產品簡介

HS1500V高溫熱臺專為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計,可用于陶瓷、冶金、地質、高溫材料等領域。可加裝樣品接電引線,可定制樣品區。
此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1500℃ 范圍內控溫,同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個真空腔,可以充入氮氣等保護氣體也可抽真空,來防止樣品高溫下反應。


溫控參數

溫度范圍

30℃ ~ 1500℃

加熱塊材質

耐高溫陶瓷

傳感器/溫控方式

S型熱電偶 / PID控制

Z大加熱/制冷速度

+200℃/min (<850℃時); min="">850℃時)

Z小加熱/制冷速度

±0.5℃/min

溫度分辨率

0.1℃

溫度穩定性

±1℃

軟件功能

可設溫控速率,可設溫控程序,可記錄溫控曲線


光學參數

適用光路

透射光路 和 反射光路

窗片

可拆卸與更替的窗片

Z小物鏡工作距離

6.8 mm (標準)   *截面圖中WD

Z小聚光鏡工作距離

13.3mm  *截面圖中CWD

透光孔

Φ2 mm  *截面圖中ΦVA

上蓋窗片觀察

窗片范圍Φ15mm,Z大視角±48°(標準) 

底部窗片觀察

窗片范圍Φ15mm,Z大視角±19°  *截面圖中θ2

高溫下顯微鏡降溫

吹氣降溫


結構參數

加熱區/樣品區

Φ7.5 mm

樣品腔高

3.5 mm

*樣品Z大厚度 = 樣品腔高 – 樣品襯底厚度

樣品襯底

默認為石英坩堝(Φ6 mmx1 mm)

上蓋

可調壓力的窗蓋,兼顧氣密型與窗片旋轉

氣氛控制

真空腔腔,可充入保護氣體,也可抽真空  

外殼冷卻

通循環水,以維持外殼溫度在常溫附近

安裝方式

水平安裝 或 垂直安裝

臺體尺寸/重量

141 mm x 62 mm x 25.3   mm / 1350g


配置列表

基本配置

HS1500V高溫熱臺 、mK2000B溫控器 、外殼循環水冷系統

可選配件

冷熱臺安裝支架 、真空系統(僅用于真空型號)、樣品接電引線


功能特點

適用于 顯微鏡/光譜儀 的超高溫應用

30℃~1500℃ 可編程控溫

Φ7.5 mm加熱區

可充入保護氣體的真空腔

可從溫控器或電腦軟件控制,可提供軟件SDK

*可做定制或改動,詳詢蘇州卡斯圖


加高蓋

適用于紅外設備 的超高溫應用

增加加熱區與紅外玻璃距離,防止損壞


溫控配件系列

用于Instec溫控裝置


適用范圍

用于搭配Instec冷熱臺、Instec溫控探針臺、Instec溫控晶圓夾盤、Instec冷熱平板、Instec定制溫控裝置使用。


溫控配件系列

安裝支架:用于將溫控裝置固定在用戶設備上

mK2000B溫控器,含InstecAPP溫控軟件,溫控裝置必選

LN2-SYS液氮制冷系統:液氮泵+液氮罐+液氮管線

外殼循環水冷系統,帕爾貼式溫控裝置必選

MITO系列溫控聯用顯微鏡相機,含控制軟件

LWDC2長工作距離聚光鏡

真空系統:包括真空泵+真空管路,用于真空型溫控裝置


LN2-SYS液氮制冷系統

主要分為液氮泵和液氮罐兩部分。使用時需用管路將溫控裝置串接在液氮罐和液氮泵之間,溫控裝置加熱塊內埋有封閉式進出管路,液氮泵受mK2000B控制進行抽氣,把液氮從液氮罐內吸到溫控裝置的加熱塊中,實現溫控裝置主動降溫。



外殼循環水冷系統

用于溫控裝置的外殼/底座的冷卻。溫控裝置加熱/制冷時,外殼/底座溫度會被帶得很燙/很涼,危害周遭人員設備及設備自身。用循環水讓外殼溫度保持在常溫附近,可以預防此災害。


mK2000B溫控器

支持恒溫、恒速率變溫、暫停、編程溫控功能。具有冷熱獨立的多段PID控制、可保存4套20段校準表等特點??瑟毩⒖刂?,也可從InstecAPP軟件控制。


溫度分辨率

±0.001℃ (熱敏電阻),±0.01℃ (RTD),±0.1℃ (熱電偶)

控制接口

USB虛擬串口 可選其他接口

可選項

LVDC線性可調直流電源,用于降低電噪音

溫控軟件

InstecAPP,可提供多語言SDK



安裝支架

針對用戶設備定制,可讓熱臺水平固定/垂直固定等,垂直光路/水平光路等的用戶設備皆可適用。通常有:

圓環式(用于圓形載物臺),平板式(用于方形載物臺)、

載物臺式(用于代替設備載物臺)、立式(用于水平光路)。




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