接觸角/表面張力/自由能測量儀 德國OEG生產的半導體行業專業的SURFTENS系列測量儀,含手動、自動。 能夠精準測量接觸角/表面張力/自由能。 晶圓尺寸可達300mm。 適用于晶圓鍍膜和光刻過程檢控、控制晶圓的涂層和光刻工藝、檢查硅晶圓表面潤濕能力,客觀檢測晶圓表面處理后的表面自由能,生產中控制技術參數、保證生產質量或開發新的鍍膜技術。適用于無塵室的要求。
型號 | SURFTENS universal (通用型) | SURFTENS HL (專業晶圓檢測) | SURFTENS Automatic (工業型) | SURFTENS WH30 (工業型) |
手動/自動 | 手動 | 手動 | 自動 | 自動 |
測量臺 | 標準支承面100mm× 100mm(可拓展),高度可調(50mm) | 適用于200mm或300mm晶圓的可選,樣品最厚5mm | 標準測量區域200× 200mm。適用大平面(如液晶玻璃基板,8-12 英寸英寸的晶圓等)樣品厚度5mm,可全自動高精度定位 | 3軸晶圓裝載機械臂,適用于直徑200mm和300mm晶圓;200mm晶圓裝載系統或300mm前開式晶圓送盒;激光晶圓掃描器;真空吸盤系統;開槽系統 |
滴液系統 | 手動滴液,高度可調,可升級雙注射器、自動滴液系統,添加電極驅 | 動和軟件控制功能,用戶可自定義滴液量 | 自動滴液(電機驅動),軟件控制單次劑量 | 與Automatic類似,全自動馬達,可通過編程控制液體精準定位在晶圓上的滴點位置與滴液過程
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光學系統 | 顯微物鏡0.8x(可升級1.6x/3.2x),光學傾角可調(0-6°) | 1倍固定放大倍率,電機驅動對焦,光學儀器傾角1° | 固定放大倍率,電機驅動對焦,光學儀器傾角1°。高分辨率CCD相機,440,000像素 | 附帶光學系統,高分辨率CCD相機,440,000像素 |
圖像采集系統 | USB2.0相機(黑/白,130萬像素,可升級500萬像素和模擬攝像機) | 高分辨率CCD相機,440,000像素 | ||
光照單元 | 長壽命高能LED燈,亮度可調 | 長壽命平板燈,亮度可調 | 長壽命平板燈,亮度可調 | 長壽命平板燈,亮度可調 |
擴展組件 | 傾斜裝置(手動,傾斜角90°,分辨率1°);接觸角測量基板(一種通過使用光刻工藝顯示接觸角照片,用于核查測量儀器精度玻璃基板);恒溫箱(軟件控制,可以在高達80°進行接觸角測量)。 | 傾斜裝置、接觸角測量基板、恒溫箱等 | - | 電熱板(清除表面遺留滴液);風機FFU(空氣過濾) |
控制軟件 | 主要根據滴液法,可通過不同水滴形狀的擬合方法全自動測量水滴的 接觸角,可手動設置基準,手動測量接觸角,從兩種已知測量液體計 算測量接觸角固體的表面自由能。 |
主要根據座滴法,并依據不同的擬合方程(球形、 多項式),來實現液體與固體表面接觸角的全自動測量。滴液落在晶圓表面后,被軟件自動識別 用戶還能通過操縱桿調整,并手動定義基線。 | 軟件內含評估模塊(Wu氏理論),通過兩種已知的測量液體來計算固體的表面自由能。軟件可通過掃描接口獲得所有圖像,可自動計算的縮放比例。圖片文件可以BMP格式、JPEG格式等復制、讀取、儲存和打印。實時顯示接觸角的圖像(可選);測量前進和后退接觸角(可選)全自動檢測隨時間變化的接觸角,時間間隔自由設定,最小50ms,在圖表顯示(可選);同時測量左右接觸角,并計算中值(可選) | 內含評估模塊(Wu氏/OWRK理論),且測量系統提供液體數據庫,可供不同液體間測量比對,通過測量兩種不同液體的接觸角,計算被測晶硅的表面自由能。配高性能視頻數字化板(圖像采集卡),測量數據存儲搭建網絡服務器進行數據傳輸、備份和存儲。軟件能自動識別裝載端口、插槽分配情況,可區分不同尺寸的硅晶圓片并自動分配,在測量前自動開槽。 提供3種用戶級別選擇,可定制 |
軟件功能拓展 | 軟件內含評估模塊(Wu氏/OWRK理論),能夠提供固體表面和5種以下液體的接觸角測量,并進行表面自由能計算;軟件還能實時視頻錄像,以AVI格式保存;最后檢測的結果也可以保存為一個記錄文檔或者視頻圖像。 軟件功能拓展實時視頻圖像顯示當前接觸角;設定檢測時間間隔,并測量與時間相關的接觸角情況,顯示在圖表上(時間間隔自由設定,最小50ms);在實時圖像上測量前進和后退接觸角;同時測量左右兩邊的接觸角,并計算中值;測量滴液期間和滴液后液體體積。 | 控制器:3軸步進電機控制器,可進行微小步距操作,控制樣品在X/Y軸方向定位,控制滴液針頭在Z軸方向定位 | 控制器:3軸步進馬達驅動晶圓承載平臺,定位精度±0.05mm | |
接觸角測量范圍 | 1°-180° | 1°-180° | 1°-180° | 1°-180° |
測量分辨率 | 0.05° | 0.05° | 0.05° | 0.05° |
測量重復性 | ±0.1° | ±0.1° | ±0.1° | ±0.1° |
測量精度 | ±0.5° | ±0.5° | ±0.5° | ±0.5° |
液滴體積再現性 | 0.1μL(根據實時視頻圖像得出) | 0.1μL(根據實時視頻圖像得出) | 0.1μL | 0.1μL |
應用 | 在特殊表面處理技術中,通過工藝特性、工藝參數的調整和生產控制使表面潤濕能力改變前后,客觀準確地測量表面自由能。 SURFTENS universal是一套堅固耐用、實用性強的接觸角測量儀器,特別適應工業領域和科學研究的需求。而且該儀器操作簡單,經過短期的培訓,任何人都能輕松使用。 | SURFTENS HL是專為半導體工業及科學研究而開發的接觸角測量儀器,特別適用于晶圓鍍膜和光刻過程檢控。針對半導體行業設計,客觀地測量晶圓表面處理前后的自由能,檢查硅晶圓的潤濕能力,在生產過程中控制技術參數、保證生產質量或開發新的鍍膜技術,由于系統的穩定性高,特別適合作為標準儀器,用于技術控制。 | 針對半導體工業設計,特別是用于控制晶圓的涂層和光刻工藝。檢查硅晶圓表面潤濕能力,客觀檢測晶圓表面處理后的表面自由能,生產中控制技術參數、保證生產質量或開發新的鍍膜技術。適用于無塵室要求。 | 應用于半導體工業的,專業全自動表面張力檢測分析;實現自動裝載與測量結合(FOUP→裝載→滴液→測量→移液→FOUP),可應用于無塵室中,潔凈等級:100。 |
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